粗磨是将粗糙的表面和不规则外形修正成形。细磨是经过粗磨后金属表面尚有很深的磨痕,需要在细磨中消除,为抛光做准备。
磁研磨抛光是利用磁性磨料在磁场作用下形成磨料刷,对工件磨削加工。这种方法加工效率高,质量好,加工条件容易控制,工作条件好。采用合适的磨料,表面粗糙度可以达到Ra0.1μm。
在每次抛光之前都需要进行模具表面进行清洁,确保模具表面干净整洁才能够进行下一步的模具抛光步骤,若是模具表面没有清理干净就进行抛光,模具表面的杂质就会影响镜面的效果,导致模具表面产生划痕,破坏产品的质量。
那么*二种就是化学抛光,化学抛光顾名思义就是采用化学药水进行抛光,一般是需要将模具工件置于化学介质之中,这样子工件表面有一些凸出的部分进行**溶解,以这种方法得到一个平滑面,这种方法方法的有点就是*比较复杂的设备,就能够抛光一个形状比较复杂的工件。并且能够同时抛光很多工件,效率也是高的。但是化学抛光存在的主要问题是抛光液体配制,并且精度要求只能够达到表面粗糙度10μm,精密程度不是很高
抛光时,高速旋转的抛光轮(圆周速度在20米/秒以上)压向工件,使磨料对工件表面产生滚压和微量切削,从而获得光亮的加工表面,表面粗糙度一般可达Ra0.63~0.01微米;当采用非油脂性的消光抛光剂时,可对光亮表面消光以改善外观。
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